ald1 원자층 증착(ALD, Atomic Layer Deposition)에서 시간 분할(Time-Divided) 및 공간 분할(Spatial-Divided)의 개념 원자층 증착(ALD, Atomic Layer Deposition)에서 시간 분할(Time-Divided) 및 공간 분할(Spatial-Divided) 증착 방식은 ALD 공정의 핵심 개념으로, 반응 매개체를 제어하는 방법에 따라 구분됩니다. 이 두 가지 방식은 각각의 장점과 활용 사례에 따라 선택됩니다.1. 시간 분할(Time-Divided ALD)개념시간 분할 ALD는 전통적인 방식으로, 반응 매개체를 시간적으로 순차적으로 공급하여 원자층을 형성합니다. 반응 매개체(A와 B)는 동일한 반응실에서 차례로 투입되며, 각 단계마다 표면 반응이 진행됩니다. 공정 단계전구체 A 주입: 반응 표면에 화학적으로 흡착.퍼지(Purge): 전구체 A의 잔여물을 제거.전구체 B 주입: A와 반응하여 박막을 형성.퍼지: .. 2024. 11. 28. 이전 1 다음
